电子和光学

提高质量和产量。降低成本。

所面临的挑战

全面污染控制对提高工艺成品率和在质量和可靠性方面保持竞争力至关重要。但对微电子和光学制造商来说,保持高标准和持续改进正成为一个更大的挑战。

颗粒物越来越细,需要更高级别的过滤来捕获。与此同时,制造商也在不断地向清洁环境转移工艺。因此,洁净室的规模正在增加,以满足对地板空间的额外需求。但更大的洁净室意味着更大的清洁区域——有更多的活动,员工、设备和材料的进出通道。

产品也变得越来越复杂。而且,随着新兴市场“洁净室”的竞争加剧,失败比以往任何时候都难以容忍。

但微电子和光学制造商面临的最大挑战或许集中在能源效率上。《建筑能效指令》(EPDB)等立法要求,自2020年以来,所有新的非公共建筑必须接近零能耗。再加上预计到2025年能源价格将出现两位数增长,这给洁净室运营商带来了前所未有的压力,迫使他们寻找新的方法来降低能源消耗。

解决方案

MANN+HUMMEL的洁净室过滤可以帮助您应对微电子或光学生产设施的操作挑战。

为了应对细颗粒物的威胁,我们可以调查您的设施,并确定您面临的污染物。然后我们就可以使用各种各样的EPA, HEPA和ULPA过滤器,一直到U17来解决威胁。这是由各种框架,外壳和终端插座支持。

说到质量保证,你不能在无尘室冒任何风险。这就是为什么我们投资了最新的半自动测试平台,可以测试所有相关的ISO和EN标准,甚至更高。您可以在三个级别的测试之间进行选择——从完全可追踪的数据报告到铁板般的质量证书——或者请求您自己的定制测试。

为了帮助您应对管理更大、更复杂的洁净室的需求,我们的折褶机可以在各种高度、宽度和距离上折褶,以生产您需要的过滤规格。他们也很快。因此,我们现在可以提供行业领先的前置时间在许多过滤器的尺寸,类型和效率。随着新的褶皱方向提高了15-20%的压降,您也可以显著提高空气输送系统的能源消耗。

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